A tecnulugia di deposizione fisica da vapore (Physical Vapor Deposition, PVD) si riferisce à l'usu di metudi fisichi in cundizioni di vacuum per vaporizà a superficia di una fonte di materiale (solidu o liquidu) in atomi o molecule gassose, o ionizà parzialmente in ioni, è passà per gas à bassa pressione (o plasma). U prucessu, una tecnulugia per deposità una pellicola sottile cù una funzione speciale nantu à a superficia di un substratu, è a deposizione fisica da vapore hè una di e principali tecnulugie di trattamentu di a superficia. A tecnulugia di rivestimentu PVD (physical vapor deposition) hè principalmente divisa in trè categurie: rivestimentu per evaporazione à vacuum, rivestimentu per sputtering à vacuum è rivestimentu per ioni à vacuum.
I nostri prudutti sò principalmente usati in l'evaporazione termica è u rivestimentu per sputtering. I prudutti usati in a deposizione di vapore includenu filu di tungstenu, barche di tungstenu, barche di molibdenu è barche di tantalu. I prudutti usati in u rivestimentu di fasciu elettronicu sò filu di tungstenu catodicu, crogiolu di rame, crogiolu di tungstenu è parti di trasfurmazione di molibdenu. I prudutti usati in u rivestimentu per sputtering includenu bersagli di titaniu, bersagli di cromu è bersagli di titaniu-aluminiu.
