Titanium (Ti) Target Multi-Arc
Target Multi-Arc Round Titanium
Obiettivi multi-arcu di titaniu sò cumpunenti di punta in u prucessu di deposizione fisica di vapore (PVD) chì depositanu filmi di titaniu di alta qualità nantu à i sustrati.
Obiettivi multi-arcu di titaniu sò fatti di titaniu d'alta purezza è fabbricati cù tecnulugia avanzata. I miri ponu deposità filmi di titaniu cù aderenza, densità è uniformità eccellenti, rispondenu à i stretti requisiti di l'applicazioni industriali muderni.
L'obiettivu multi-arcu di titaniu di a nostra cumpagnia hà alta purezza, alta densità, dimensione precisa, granulometria petite è distribuzione uniforme, assicurendu in modu efficace l'efficienza di deposizione di film veloce, una distribuzione uniforme è una bona prestazione.
Titanium Multi-Arc Target Information
| Nome di i prudutti | Target Multi-Arc Titanium |
| Grade | TA1, TA2 |
| Standard | GB/T2965-2007 |
| Purità | 99,7%, 99,5%, 99,99% |
| Densità | 4,506 g/cm³ |
| Puntu di fusione | 1668 ℃ |
| Puntu di ebollizione | 3287 ℃ |
| Prucessu | Taglio di barre-lavorazione-pulizia-ispezione di qualità-consegna |
| MOQ | 10 pezzi |
Specificazione di furnimentu
| Diametru (mm) | Spessore (mm) |
| Φ100 | 40/50/60 |
| Φ95 | 40/45 |
| Φ90 | 40 |
| Φ80 | 40 |
| Più specificazioni è dimensioni permettenu a persunalizazione. | |
Sicondu i vostri bisogni reali, pudemu persunalizà diverse dimensioni per voi. Avemu ancu furnisce miri multi-arcu di zirconiu. Cuntattateci per più infurmazione.
Titanium Multi-Arc Target Applicazioni
I miri multi-arcu di titaniu anu una varietà di applicazioni in diverse industrii, cumprese:
• Semiconductor Manufacturing
• Ottica è Fotonica
• Pruduzzione di cellula sulari
• Rivestimenti decorativi
Obiettivi multi-arcu di titaniu ponu esse persunalizati per risponde à esigenze specifiche, cumprese a geometria, a dimensione è a cumpusizioni di destinazione.
Cos'è la placcatura ionica Multi-Arc?
A tecnulugia di placcatura di ioni multi-arcu hè una tecnulugia di trattamentu di a superficia chì combina a deposizione d'arcu catodica è a deposizione di fasciu di ioni. Durante u prucessu di placcatura di ioni multi-arcu, i fasci di ioni d'alta energia interagiscenu cù a superficia di destinazione, in modu chì l'atomi o molécule nantu à a superficia di destinazione uttene energia sufficiente lascianu a superficia di destinazione, è depositanu nantu à a superficia di u sustrato per furmà una film fina. A tecnulugia di placcatura di ioni multi-arcu hà e caratteristiche di un altu tassu di depositu, una bona qualità di film, è una larga gamma di applicazioni. Dunque, hè largamente utilizatu in i campi industriali, medichi, ottici è altri.
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